電鏡用鍍膜儀可以提供噴碳和濺射兩種工作模式。此外，系統(tǒng)配有膜厚晶振儀，可以對膜厚進行準確的控制。設備采用觸摸屏控制，過程全自動操作。
 

　　電鏡用鍍膜儀配置為濺射鍍膜機或碳絲蒸發(fā)鍍膜機后，可以在全自動化系統(tǒng)中獲得*可重復的結果，實現了一臺EM ACE200具有噴金儀，噴碳儀，蒸鍍儀三種功能。如果您的分析需要這兩種方法，徠卡顯微系統(tǒng)在一臺儀器中提供可互換機頭的組合儀表。各個選項，如石英晶體測量、行星旋轉、輝光放電和可交換屏蔽共同構成這臺低真空鍍膜機。
 

　　電鏡用鍍膜儀的技術參數：
 

　　可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，或者雙模式，可選輝光放電(用于網格表面親水化)
 

　　設計脈沖式碳絲蒸發(fā)方式，可準確控制碳膜厚度
 

　　可選石英膜厚檢測器，準確控制鍍膜厚度，精度達0.1nm
 

　　全自動程序控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等過程
 

　　觸摸屏控制，簡單方便
 

　　真空度7×10-3mbar
 

　　濺射電流：0-150mA可調
 

　　方形樣品倉設計，樣品倉尺寸：140mm(寬)×145mm(深)×150mm(高)
 

　　工作距離調節(jié)范圍：30mm-100mm
 

　　電鏡用鍍膜儀的技術指標：
 

　　薄膜沉積模式： 噴碳，以及濺射(Pt等)
 

　　系統(tǒng)真空度： 10-6mbar
 

　　濺射靶材直徑： 54mm
 

　　碳絲蒸發(fā)較大功率： 700W
 

　　濺射電流： 15～150mA